蒸着材料
- アルミナ （Aluminium Oxide=Al2O3）
- フッ化マグネシウム （Magnesium Fluoride=MgF2）
- 一酸化珪素（Silicon Monoxide=SiO）
- 二酸化珪素（Silicon Dioxide=SiO2）
- 酸化チタン（Titanium Dioxide=TiO2）
- 五酸化タンタル（Tantalum Pentoxide=Ta2O5）
- 硫化亜鉛（Zinc Sulfide=ZnS）
- 酸化ジルコニウム（Zirconium Dioxide=ZrO2）
アルミナ
| (1) 分子量 | 101.96 |
| (2) 外観 | 無色透明の顆粒状 |
| (3) 比重 | 3.97g/cm 3 |
| (4) 融点 | 2040℃ |
| (5) 沸点 | 5500℃ |
| (6) 蒸気圧 | 1900℃:１Pa 2200℃:１0Pa |
| (7) 線膨張率 | 50℃:6.1×10 -6 / K |
| (8) 比熱容量 | 27℃:0.78J/gK |
| (9) 硬度 | モース:9 ヌープ:1370Kg/m ㎡ |
| (10) 溶解性 | 水に不溶性、酸・アルカリに難 溶 性 |
| (11) タイプ分析 | Iron(Fe) ≦35ppm Cobalt(Co) ≦10ppm Chromium(Cr) ≦10ppm Copper(Cu) ≦10ppm Manganese(Mn) ≦10ppm Nickel(Ni) ≦10ppm |
| (12) 薄膜特性 | 透光範囲 ～200～5000nm 屈折率 (500nm) 基盤温度 30℃:1.60 屈折率 (500nm) 基盤温度 300℃:1.63 |
| (13) 蒸発方法 | 電子ビームによる蒸発 蒸発温度～2000～2200℃ 沈着速度 ～1nm/s 酸素分圧 ～10 -2 Pa |
| (14) 用途 | 反射防止膜、多層膜、干渉薄膜、保護膜等 |
フッ化マグネシウム
| (1) 分子量 | 62.32 |
| (2) 外観 | 無色透明の粒状 |
| (3) 比重 | 3.18g/cm 3 |
| (4) 融点 | 1260℃ |
| (5) 沸点 | 2239℃ |
| (6) 蒸気圧 | 1150℃:１Pa 1300℃:１0Pa |
| (7) 体膨張率 | 3.2×10 -5 / K |
| (8) 比熱容量 | 1KJ/KgK |
| (9) 熱伝導率 | 3.15W/mK |
| (10) 硬度 | モース:5-6 ヌープ:576Kg/m ㎡ |
| (11) 溶解性 | 硝酸に溶解 |
| (12) タイプ分析 | Fe ≦30ppm Cu ≦15ppm Co ≦15ppm Cr ≦15ppm Mn ≦10ppm Ni ≦10ppm |
| (13) 薄膜特性 | 透光範囲 130～7000nm 屈折率:210nm ～1.42 屈折率:550nm ～1.38 屈折率:2800nm ～1.36 屈折率:5300nm ～1.33 吸収係数:500nm 10 -4 構造 基板温度(常温):不定形 基盤温度 250℃以上:結晶質 |
| (14) 蒸発方法 | モリブデン敷板もしくは電子ビーム 基盤温度 ～200～300℃ 蒸発圧力 5×10 -3 Pa |
| (15) 用途 | 反射防止膜、多層膜、ビームスプリッター、等 |
⼀酸化珪素
| (1) 分子量 | 44.09 |
| (2) 外観 | 茶色の粉状、黒色の粒状・塊 |
| (3) 比重 | 2.13g/cm 3 |
| (4) 融点 | 1705℃ |
| (5) 蒸気圧 | 1080℃:１Pa 1180℃:１0Pa |
| (6) 溶解性 | 水に不溶性、8-フッ化水素酸に溶解 |
| (7) 純度 タイプ分析 | 99.95% min
Fe ≦35ppm Cr ≦15ppm Cu ≦15ppm Mn ≦15ppm Ni ≦10ppm |
| (8) 薄膜特性 | 透光範囲 440～8000nm 屈折率 550nm ～1.55 |
| (9) 蒸発方法 | モリブデン、タングステン敷板もしくはタンタル敷板 蒸発温度 ～1200～1600℃ |
| (10) 用途 | 反射防止膜、保護皮膜、干渉膜、宝石等 |
⼆酸化珪素
| (1) 分子量 | 60.06 |
| (2) 外観 | 無色透明の粒状 |
| (3) 比重 | 2.202g/cm 3 |
| (4) 融点 | 1700℃ |
| (5) 蒸気圧 | 2000℃:１Pa 2200℃:１0Pa |
| (6) 線膨張率 | 0.5×10 -6 /K(293-1173K) |
| (7) 比熱容量 | 0.201Cal/g.K |
| (8) 熱伝導率(20℃) | 0.00285Cal/K.cm.s(287K) |
| (9) 硬度 | モース:5.5 ヌープ:461g/m ㎡ |
| (10) 溶解性 | 水に不溶性、フッ酸に溶解 |
| (11) タイプ分析 | Fe ≦30ppm Cr ≦15ppm Cu ≦15ppm Mn ≦15ppm Ni ≦15ppm |
| (12) 薄膜特性 | 透光範囲 200～8000nm 屈折率:550nm ～1.46 |
| (13) 蒸発方法 | 蒸発温度 ～1700℃ 蒸発圧力 5×10 -3 Pa |
| (14) 用途 | 多層膜コーティング、反射防止膜、ビームスプリッター、キャパシタ膜 |
酸化チタン
| (1) 分子量 | 77.9 |
| (2) 外観 | 黒色もしくは白色のタブレット、顆粒 |
| (3) 比重 | ルチル 4.26g/cm 3 ブルッカイト 4.17 g/cm 3 アナターゼ 3.84 g/cm 3 |
| (4) 融点 | 1820℃ ±20℃ |
| (5) 蒸気圧 | 1780℃:１Pa 1930℃:１0Pa |
| (6) 線膨張率 | 9.19×10 -6 /K |
| (7) 比熱容量 | 0.711KJ/KgK |
| (8) 硬度 | モース: ルチル 6.0-6.5 モース: アナターゼ 5.5-6.0 ヌープ: ルチル 879Kg/m ㎡ |
| (9) 溶解性 | 水に不溶性、硫酸・アルカリに難溶性 |
| (10)タイプ分析 | Fe ≦50ppm Co ≦15ppm Cr ≦15ppm Mn ≦10ppm Ni ≦15ppm |
| (11) 薄膜特性 | 透光範囲 400～12000nm 屈折率:470nm ～2.4 屈折率:550nm ～2.3 屈折率:630nm ～2.2 膜は加熱基板に蒸着されると非常に硬く耐久性を持ちます。 構造基板温度 200℃以下:アモルファス 基板温度 300℃以上:ルチル |
| (12) 蒸発方法 | 電子ビームにて 基盤温度 250～300℃ 蒸発圧力 5×10 -3 to2×10 -2 Pa 凝縮速度 10～20nm/min |
| (13) 用途 | 高屈折層膜、レーザーミラーの多層膜、ビームスプリッター、熱線反射鏡 等 |
五酸化タンタル
| (1) 分子量 | 441.9 |
| (2) 外観 | ダークグレー/白色のタブレットもしくは顆粒 |
| (3) 比重 | 8.7g/cm 3 |
| (4) 融点 | 1880 ℃ |
| (5) 蒸気圧 | 2000℃:１Pa 2200℃:10Pa |
| (6) 溶解性 | 水に不溶性、フッ酸に溶解 |
| (7) タイプ分析 | Fe ≦30ppm Cr ≦15ppm Cu ≦15ppm Mn ≦15ppm Ni ≦15ppm |
| (8) 薄膜特性 | 透光範囲 400～8000nm 屈折率:550nm 2.10 |
| (9) 蒸発方法 | 電子ビームにて 蒸発温度 ～2100℃ 酸素分圧 10 -2 Pa 基盤温度 250～300℃ |
| (10) 用途 | 反射防止膜、干渉フィルター |
硫化亜鉛
| (1) 分子量 | 97.44 |
| (2) 外観 | 白色もしくは黄色のタブレット 、 顆粒 |
| (3) 比重 | 3.98g/cm 3 |
| (4) 融点 | 1800 ℃ |
| (5) 蒸気圧 | 970℃:１Pa 1080℃:１0Pa |
| (6) 硬度 | モース: 3.5-4.0 ヌープ: 178±27Kg/m ㎡ |
| (7) 溶解性 | 1×10 -3 g/100g 水で酸に溶解 |
| (8) 線膨張率 | 6.1×10 -6 |
| (9)タイプ分析 | Fe ≦30ppm Co ≦15ppm Cr ≦15ppm Cu ≦15ppm Mn ≦15ppm Ni ≦10ppm |
| (10) 薄膜特性 | 透光範囲 4000～14000nm 屈折率 550nm ～2.3 |
| (11) 蒸発方法 | モリブデン、タンタル敷板での電子ムービーにて 蒸発温度 1100℃ 蒸発圧力 10 -3 to10 -4 Pa 基板温度 30～150℃ |
| (12) 用途 | 多層膜、ビームスプリッター、反射防止膜 |
酸化ジルコニウム
| (1) 分子量 | 123.22 |
| (2) 外観 | 白色もしくはダークグレーのタブレット 、 顆粒 |
| (3) 比重 | 5.6g/cm 3 |
| (4) 融点 | 2700 ℃ |
| (5) 沸点 | 4800℃ |
| (6) 蒸気圧 | 2400℃:１Pa 2600℃:１0Pa |
| (7) 線膨張率 | 5.72×10 -5 K(60℃:単斜) |
| (8) 比熱容量 | 20℃:0.453KJ/KgK |
| (9) 硬度 | モース: 6.5 |
| (10) 溶解性 | 水に不溶、硫酸・フッ酸に溶解 |
| (11) タイプ分析 | Fe ≦30ppm Cu ≦15ppm Co ≦15ppm Cr ≦15ppm Mn ≦10ppm Ni ≦15ppm |
| (12) 薄膜特性 | 透光範囲 250～7000nm 屈折率:基板温度 250℃/550nm 2.05～2.1 基板温度 30℃/550nm 1.8～1.9 |
| (13) 蒸発方法 | 電子ビームにて 蒸発温度 2500～2700℃ 蒸発圧力 ～5×10 -3 to2×10 -2 Pa 凝縮速度 10nm/min 基板温度 ～200～300℃ |
| (14) 用途 | 多層膜、ビームスプリッター、反射防止膜 等 |
