蒸着材料

  • アルミナ (Aluminium Oxide=Al2O3)
  • フッ化マグネシウム (Magnesium Fluoride=MgF2)
  • 一酸化珪素(Silicon Monoxide=SiO)
  • 二酸化珪素(Silicon Dioxide=SiO2)
  • 酸化チタン(Titanium Dioxide=TiO2)
  • 五酸化タンタル(Tantalum Pentoxide=Ta2O5)
  • 硫化亜鉛(Zinc Sulfide=ZnS)
  • 酸化ジルコニウム(Zirconium Dioxide=ZrO2)

アルミナ

(1) 分子量 101.96
(2) 外観 無色透明の顆粒状
(3) 比重 3.97g/cm 3
(4) 融点 2040℃
(5) 沸点 5500℃
(6) 蒸気圧 1900℃:1Pa
2200℃:10Pa
(7) 線膨張率 50℃:6.1×10 -6 / K
(8) 比熱容量 27℃:0.78J/gK
(9) 硬度 モース:9
ヌープ:1370Kg/m ㎡
(10) 溶解性 水に不溶性、酸・アルカリに難 溶 性
(11) タイプ分析 Iron(Fe) ≦35ppm
Cobalt(Co) ≦10ppm
Chromium(Cr) ≦10ppm
Copper(Cu) ≦10ppm
Manganese(Mn) ≦10ppm
Nickel(Ni) ≦10ppm
(12) 薄膜特性 透光範囲 ~200~5000nm
屈折率 (500nm) 基盤温度 30℃:1.60
屈折率 (500nm) 基盤温度 300℃:1.63
(13) 蒸発方法 電子ビームによる蒸発
蒸発温度~2000~2200℃
沈着速度 ~1nm/s
酸素分圧 ~10 -2 Pa
(14) 用途 反射防止膜、多層膜、干渉薄膜、保護膜等

フッ化マグネシウム

(1) 分子量 62.32
(2) 外観 無色透明の粒状
(3) 比重 3.18g/cm 3
(4) 融点 1260℃
(5) 沸点 2239℃
(6) 蒸気圧 1150℃:1Pa
1300℃:10Pa
(7) 体膨張率 3.2×10 -5 / K
(8) 比熱容量 1KJ/KgK
(9) 熱伝導率 3.15W/mK
(10) 硬度 モース:5-6
ヌープ:576Kg/m ㎡
(11) 溶解性 硝酸に溶解
(12) タイプ分析 Fe ≦30ppm
Cu ≦15ppm
Co ≦15ppm
Cr ≦15ppm
Mn ≦10ppm
Ni ≦10ppm
(13) 薄膜特性 透光範囲 130~7000nm
屈折率:210nm ~1.42
屈折率:550nm ~1.38
屈折率:2800nm ~1.36
屈折率:5300nm ~1.33
吸収係数:500nm 10 -4
構造 基板温度(常温):不定形
   基盤温度 250℃以上:結晶質
(14) 蒸発方法 モリブデン敷板もしくは電子ビーム
基盤温度 ~200~300℃
蒸発圧力 5×10 -3 Pa
(15) 用途 反射防止膜、多層膜、ビームスプリッター、等

⼀酸化珪素

(1) 分子量 44.09
(2) 外観 茶色の粉状、黒色の粒状・塊
(3) 比重 2.13g/cm 3
(4) 融点 1705℃
(5) 蒸気圧 1080℃:1Pa
1180℃:10Pa
(6) 溶解性 水に不溶性、8-フッ化水素酸に溶解
(7) 純度 タイプ分析 99.95% min Fe ≦35ppm
Cr ≦15ppm
Cu ≦15ppm
Mn ≦15ppm
Ni ≦10ppm
(8) 薄膜特性 透光範囲 440~8000nm
屈折率 550nm ~1.55
(9) 蒸発方法 モリブデン、タングステン敷板もしくはタンタル敷板
蒸発温度 ~1200~1600℃
(10) 用途 反射防止膜、保護皮膜、干渉膜、宝石等

⼆酸化珪素

(1) 分子量 60.06
(2) 外観 無色透明の粒状
(3) 比重 2.202g/cm 3
(4) 融点 1700℃
(5) 蒸気圧 2000℃:1Pa
2200℃:10Pa
(6) 線膨張率 0.5×10 -6 /K(293-1173K)
(7) 比熱容量 0.201Cal/g.K
(8) 熱伝導率(20℃) 0.00285Cal/K.cm.s(287K)
(9) 硬度 モース:5.5
ヌープ:461g/m ㎡
(10) 溶解性 水に不溶性、フッ酸に溶解
(11) タイプ分析 Fe ≦30ppm
Cr ≦15ppm
Cu ≦15ppm
Mn ≦15ppm
Ni ≦15ppm
(12) 薄膜特性 透光範囲 200~8000nm
屈折率:550nm ~1.46
(13) 蒸発方法 蒸発温度 ~1700℃
蒸発圧力 5×10 -3 Pa
(14) 用途 多層膜コーティング、反射防止膜、ビームスプリッター、キャパシタ膜

酸化チタン

(1) 分子量 77.9
(2) 外観 黒色もしくは白色のタブレット、顆粒
(3) 比重 ルチル 4.26g/cm 3
ブルッカイト 4.17 g/cm 3
アナターゼ 3.84 g/cm 3
(4) 融点 1820℃ ±20℃
(5) 蒸気圧 1780℃:1Pa
1930℃:10Pa
(6) 線膨張率 9.19×10 -6 /K
(7) 比熱容量 0.711KJ/KgK
(8) 硬度 モース: ルチル 6.0-6.5
モース: アナターゼ 5.5-6.0
ヌープ: ルチル 879Kg/m ㎡
(9) 溶解性 水に不溶性、硫酸・アルカリに難溶性
(10)タイプ分析 Fe ≦50ppm
Co ≦15ppm
Cr ≦15ppm
Mn ≦10ppm
Ni ≦15ppm
(11) 薄膜特性 透光範囲 400~12000nm
屈折率:470nm ~2.4
屈折率:550nm ~2.3
屈折率:630nm ~2.2
膜は加熱基板に蒸着されると非常に硬く耐久性を持ちます。
構造基板温度 200℃以下:アモルファス
基板温度 300℃以上:ルチル
(12) 蒸発方法 電子ビームにて
基盤温度 250~300℃
蒸発圧力 5×10 -3 to2×10 -2 Pa
凝縮速度 10~20nm/min
(13) 用途 高屈折層膜、レーザーミラーの多層膜、ビームスプリッター、熱線反射鏡 等

五酸化タンタル

(1) 分子量 441.9
(2) 外観 ダークグレー/白色のタブレットもしくは顆粒
(3) 比重 8.7g/cm 3
(4) 融点 1880 ℃
(5) 蒸気圧 2000℃:1Pa
2200℃:10Pa
(6) 溶解性 水に不溶性、フッ酸に溶解
(7) タイプ分析 Fe ≦30ppm
Cr ≦15ppm
Cu ≦15ppm
Mn ≦15ppm
Ni ≦15ppm
(8) 薄膜特性 透光範囲 400~8000nm
屈折率:550nm 2.10
(9) 蒸発方法 電子ビームにて
蒸発温度 ~2100℃
酸素分圧 10 -2 Pa
基盤温度 250~300℃
(10) 用途 反射防止膜、干渉フィルター

硫化亜鉛

(1) 分子量 97.44
(2) 外観 白色もしくは黄色のタブレット 、 顆粒
(3) 比重 3.98g/cm 3
(4) 融点 1800 ℃
(5) 蒸気圧 970℃:1Pa
1080℃:10Pa
(6) 硬度 モース: 3.5-4.0
ヌープ: 178±27Kg/m ㎡
(7) 溶解性 1×10 -3 g/100g 水で酸に溶解
(8) 線膨張率 6.1×10 -6
(9)タイプ分析 Fe ≦30ppm
Co ≦15ppm
Cr ≦15ppm
Cu ≦15ppm
Mn ≦15ppm
Ni ≦10ppm
(10) 薄膜特性 透光範囲 4000~14000nm
屈折率 550nm ~2.3
(11) 蒸発方法 モリブデン、タンタル敷板での電子ムービーにて
蒸発温度 1100℃
蒸発圧力 10 -3 to10 -4 Pa
基板温度 30~150℃
(12) 用途 多層膜、ビームスプリッター、反射防止膜

酸化ジルコニウム

(1) 分子量 123.22
(2) 外観 白色もしくはダークグレーのタブレット 、 顆粒
(3) 比重 5.6g/cm 3
(4) 融点 2700 ℃
(5) 沸点 4800℃
(6) 蒸気圧 2400℃:1Pa
2600℃:10Pa
(7) 線膨張率 5.72×10 -5 K(60℃:単斜)
(8) 比熱容量 20℃:0.453KJ/KgK
(9) 硬度 モース: 6.5
(10) 溶解性 水に不溶、硫酸・フッ酸に溶解
(11) タイプ分析 Fe ≦30ppm
Cu ≦15ppm
Co ≦15ppm
Cr ≦15ppm
Mn ≦10ppm
Ni ≦15ppm
(12) 薄膜特性 透光範囲 250~7000nm
屈折率:基板温度 250℃/550nm 2.05~2.1
基板温度 30℃/550nm 1.8~1.9
(13) 蒸発方法 電子ビームにて
蒸発温度 2500~2700℃
蒸発圧力 ~5×10 -3 to2×10 -2 Pa
凝縮速度 10nm/min
基板温度 ~200~300℃
(14) 用途 多層膜、ビームスプリッター、反射防止膜 等

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